会社概要 会社沿革 設備概要 所在地 代表挨拶 経営理念 ISO方針 新着情報 採用情報 新着情報一覧 月別アーカイブ 2025年6月 2025年5月 2025年4月 2025年3月 2025年2月 2025年1月 2024年12月 2024年11月 2024年10月 2024年8月 2024年7月 2023年12月 2023年11月 2023年10月 2023年9月 2023年7月 2023年1月 2022年11月 2022年9月 2022年7月 2022年4月 2022年3月 2022年2月 2021年12月 2021年9月 2021年5月 2020年12月 2020年11月 2020年9月 2020年8月 2019年11月 2019年3月 2018年11月 2018年10月 2018年5月 2017年12月 2017年4月 2017年2月 2016年11月 2016年5月 2016年4月 2015年10月 2015年9月 2015年6月 2015年5月 2015年3月 2015年1月 2014年12月 2014年10月 2014年9月 2014年8月 2014年7月 2014年6月 2014年5月 2013年7月 2013年4月 2013年1月 2012年12月 2011年10月 2021.05.31 単結晶4H-SiC加工実績追加 弊社トップ精工では、近年パワー半導体分野のウエハ素材として注文されております単結晶の4H-SiCの研削加工を確立致しました。 熱伝導率がRT420~490W(W/mK)と非常に高く、放熱部品としての…… 続きを読む 2021.05.08 本社工場増築のお知らせ 生産能力の向上を目指し、2021年2月末に本社工場増築を着工いたしました。 1階を製造現場とし、2階には事務所を始め食堂やジムを兼ね備える2階建てとなる予定です。 …… 続きを読む