SiCエンボス加工品

製品名 SiCエンボス加工品
使用素材 炭化ケイ素(SiC)
加工内容 マシニングセンタ加工 エンボス加工
備考

φ230xt5

エンボス: 突起0.1mm±0.02 約100カ所

平面度/平行度 0.02mm

半導体製造装置等

エッチング加工、ブラスト加工による形状もマシニングセンタによる機械加工のみで可能

 

炭化ケイ素加工(SiC)事例

株式会社トップ精工

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